Xác định các thuộc tính plasma ion hóa yếu trong va chạm electron của phân tử khí TRIES và khả năng ứng dụng trong công nghệ chế tạo vi mạch
Đã lưu trong:
Tác giả chính: | |
---|---|
Định dạng: | Luận án, luận văn |
Ngôn ngữ: | Vietnamese |
Được phát hành: |
2022
|
Truy cập trực tuyến: | https://hdl.handle.net/11742/74681 |
Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|